1952

Primera máquina de deposición en alto vacío

1980

Cambio de automatización de sistema electromecánico a microprocesor

1990

Primer equipo PECVD

1998

Tercera generación de equipos Sputtering

2000

PC para control del proceso integrado

2005

Máquina completamente digitalizada y online

2019

La innovación continua...