1952

Prima macchina di deposizione in alto vuoto

1980

Cambio di automazione da sistema elettromeccanico a microprocessore

1990/h4>

Primo impianto PECVD

1998

Terza generazione impianto Sputtering

2000

PC per controllo di processo integrato

2005

Macchina completamente digitalizzata ed online

2019

L'innovazione continua...